Wasserstoffreinigungsanlage - 99,9999% Ultrahochrein-H2-System mit 50-500 Nm³/h Kapazität und katalytischer Deoxygenierung

Diese Gaswasserstoffreinigungsanlage produziert ultrareinen Wasserstoff mit 99,9999% Reinheit durch eine vollständige Reinigungsstrecke aus Deoxygenierung, Adsorptionstrocknung und Präzisionsfiltration. Ideal für Elektronik-, Halbleiter-, Metallurgie- und Laboranwendungen, die kontaminationsfreien Wasserstoffgas benötigen.

Rohwasserstoffgas tritt in einen katalytischen Deoxygenierungsreaktor ein, wo Rest-Sauerstoff mit Wasserstoff zu Wasser reagiert. Das Gas durchläuft dann Doppelkolonnen-Adsorptionstrockner zur Tiefentfeuchtung, gefolgt von hocheffizienten Staubfiltern, die Wasserstoff mit 99,9999% Reinheit und einem Sauerstoffgehalt unter 1 ppm liefern.

• Ultrahochreine Ausgabe: 99,9999% H2 mit O2-Gehalt unter 1 ppm
• Vollständige Reinigungsstrecke: Deoxygenierung, Trocknung und Filtration integriert in einer Anlage
• Kontinuierlicher Betrieb: automatische Doppelkolonnenregeneration ohne Abschaltung
• SPS + HMI-Steuerung: Online-Reinheitsanalysator mit Alarmverriegelung
• Kompaktes Anlagendesign: geringer Platzbedarf, schnelle Installation und einfache Wartung

Elektronik- und Halbleiterfertigung, metallurgisches Glühen, Glasgläserproduktion, Laborgasversorgung und Brennstoffzellentests.

Kundenspezifische Kapazität und Reinheit verfügbar. Kontaktieren Sie uns für einen kostenlosen technischen Vorschlag.