Stickstoffreinigungseinheiten – Erfüllung von Ultrahochreinheitsanforderungen

Stickstoffreinigungssysteme – Erfüllung von Ultra-Hochreinanforderungen

F: Wann ist eine Stickstoffreinigung notwendig?
Standardgeneratoren (PSA/Membran) genügen für die meisten Anwendungen unter 99,999 % Reinheit. Reinigungsanlagen werden kritisch für:

• Halbleiterherstellung:<1 ppb Sauerstoff zur Verhinderung der Waferoxidation
• Laserschneiden: 99,9999 % Reinheit verbessert die Schneidpräzision bei Luft- und Raumfahrtlegierungen
• Batterieherstellung: Feuchtigkeit <0,1 ppm vermeidet die Degradation von Lithium-Ionen-Zellen

F: Welche Technologien integrieren Reinigungsanlagen?
Ein typisches System kombiniert:

1. Katalytische Desoxygenierer: Platin-Katalysatoren wandeln O₂ bei 300-400°C in H₂O um
2. Adsorptionstrockner: Aktiviertes Aluminiumoxid entfernt Wasser bis zu einem Taupunkt von -70°C
3. Partikelfilter: 0,01 μm Filter erfüllen die ISO 8573-1 Klasse 0 Standards

F: Wie passen sich Anlagen an unterschiedliche Anforderungen an?
Modulare Designs ermöglichen eine Kapazitätsskalierung von 10 Nm³/h (Laboranwendung) bis zu 2.000 Nm³/h (petrochemische Anlagen). Zu den Merkmalen gehören:

• Redundante Kompressoren für den 24/7-Betrieb
• Cloud-basiertes Monitoring mit Reinheitstrendanalysen
• Auf dem System montierte Konfigurationen für Plug-and-Play-Installation